1、南大光电 300346：
光刻胶+第三代半导体
1、公司在193nm浸没式光刻胶产品开发方面处于领先地位。公司三氟化氮的扩产进度也根据市场情况及时调整。三氟化氮主要用于半导体制造工艺中的腔体清洗环节，用量大。
2、公司“年产45吨半导体先进制程用前驱体产品产业化项目”和“年产140吨高纯磷烷、砷烷扩产及砷烷技改项目”已建设完成，拟实施结项。公司电子级磷烷、砷烷技术水平已达到全球领先的7N级别，销量方面业已成为国内电子级磷烷、砷烷的第一大供应商。
3、公司部分MO源产品可应用于第三代半导体，如低硅低氧三甲基铝是第三代半导体的关键材料。
4、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售。
（2024-10-08）

2、南大光电 300346：
光刻胶+第三代半导体
1、公司在193nm浸没式光刻胶产品开发方面处于领先地位。公司三氟化氮的扩产进度也根据市场情况及时调整。三氟化氮主要用于半导体制造工艺中的腔体清洗环节，用量大。
2、公司“年产45吨半导体先进制程用前驱体产品产业化项目”和“年产140吨高纯磷烷、砷烷扩产及砷烷技改项目”已建设完成，拟实施结项。公司电子级磷烷、砷烷技术水平已达到全球领先的7N级别，销量方面业已成为国内电子级磷烷、砷烷的第一大供应商。
3、公司部分MO源产品可应用于第三代半导体，如低硅低氧三甲基铝是第三代半导体的关键材料。
4、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售。
（2024-06-11）

3、南大光电 300346：
光刻胶+三氟化氮
1、公司ArF光刻胶先后通过50nm闪存平台认证和55nm逻辑电路平台认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶年产能将达25吨（干式5吨和浸没式20吨）。
2、2023年公司拟6亿元投建年产8400吨高纯电子级三氟化氮生产项目。2024年公司申请二茂铁纯化装置专利，2024年1月10日公司申请高纯度La(iPrCp)3专利。
3、公司承担的国家科技重大专项(02专项)“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收。
4、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是全球主要的MO源生产商。
（2024-05-27）

4、南大光电 300346：
三氟化氮+光刻胶+专精特新
1、2023年12月9日公告，公司拟6亿元投建年产8400吨高纯电子级三氟化氮生产项目。
2、2024年1月26日消息，南大光电申请二茂铁纯化装置专利，可高效提纯，降低纯化成本，1月10日公司申请高纯度La(iPrCp)3专利。
3、公司ArF光刻胶先后通过50nm闪存平台认证和55nm逻辑电路平台认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶年产能将达25吨（干式5吨和浸没式20吨）。
4、公司作为牵头单位，承担的国家科技重大专项(02专项)“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收。
5、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是全球主要的MO源生产商，主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、硅前驱体和OLED材料。
（2024-02-06）

5、南大光电 300346：
一季度业绩增长+光刻胶+专精特新
1、22年4月28日晚公告，公司第一季度公司实现营业收入4.11亿元，同比增长94.67%；净利润8066.96万元，同比增长89.38%。
2、公司ArF光刻胶先后通过50nm闪存平台认证和55nm逻辑电路平台认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，目前已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶年产能将达25吨（干式5吨和浸没式20吨）。
3、公司作为牵头单位，承担的国家科技重大专项(02专项)“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收。
4、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售,是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商；公司主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、高K三甲基铝、硅前驱体和OLED材料。（详细解析请查阅7月28日异动解析）
（2022-04-29）

6、南大光电 300346：
光刻胶+专精特新
1、公司ArF光刻胶先后通过50nm闪存平台认证和55nm逻辑电路平台认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，目前已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶年产能将达25吨（干式5吨和浸没式20吨）。
2、公司作为牵头单位，承担的国家科技重大专项(02专项)“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收。
3、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售,是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商；公司主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、高K三甲基铝、硅前驱体和OLED材料。（详细解析请查阅7月28日异动解析）
（2022-03-17）

7、南大光电 300346：
光刻胶+专精特新
1、9月24日互动：目前公司主要产品订单饱和；正在研发和产业化的ArF光刻胶有小批量订单。公司ArF光刻胶先后通过50nm闪存平台认证和55nm逻辑电路平台认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，目前已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶年产能将达25吨（干式5吨和浸没式20吨）。
2、7月29日晚间公告，公司作为牵头单位，承担的国家科技重大专项(02专项)“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收。
3、大基金二期1.83亿战略增资公司控股子公司宁波南大光电，交易完成后持股18.33%，扩充资金实力的同时有利于增强公司与国内半导体设备、芯片制造头部企业的协同。
4、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售,是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商；公司主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、高K三甲基铝、硅前驱体和OLED材料。（详细解析请查阅7月28日异动解析）
（2021-10-22）