至纯科技 核心题材：
供货新凯来+拟收购威顿晶磷+半导体清洗设备+客户华为
1、网传纪要表示，公司是新凯来的核心供应商，主要提供半导体清洗湿法艺设备，满足先进制程需求。（未经证实）
2、2025年2月27日盘后公告，公司拟收购威顿晶磷83.78%股份，后者2024年营收2.49亿，净利润6905万；高纯电子材料主要覆盖前驱体材料、掺杂/氧化类材料等类别，具体产品包括高纯电子级的 TEOS、TMA、三氯氧磷等多个品种,产品已通过中芯国际、华虹集团、长江存储、合肥长鑫等厂商和隆基绿能、晶科能源等主要光伏生产厂商的验证并批量供货。
3、公司清洗设备产能150-200台。公司高纯工艺系统产品内容包括电子气体化学品的专用处理设备、整厂气化集成服务及相关专有服务及材料；适用于包括核心工艺工序段，例如光刻等环节。
4、公司客户含华为。
5、公司在合肥布局晶圆再生及部件清洗项目，是国内首条投产的12英寸晶圆再生产线。
（更新时间：2025-03-28）

题材要点：
要点一:主要业务集中在集成电路领域，占公司业务的80%
至纯科技公司在报告期内的主要业务集中在集成电路领域，占公司业务的80%。公司主要从事半导体制程设备、系统集成及支持设备的研发、生产和销售，此外还提供相关部件材料及专业服务。公司在半导体制程设备方面，提供湿法清洗设备，专注于晶圆制造的前道工艺，涵盖扩散、光刻、刻蚀等关键工序。高端产品包括SPM高温硫酸清洗设备等。此外，公司在海宁设立了半导体模组及部件制造基地，以推动关键半导体零部件的国产化替代。公司还在合肥设立了晶圆再生及部件清洗产线，提供7纳米及以上制程的清洗服务。在大宗气体供应方面，公司为28纳米工艺节点的集成电路制造商提供高纯气体供应服务，已建成两座12英寸晶圆厂的大宗气体供应工厂。

要点二:半导体制程设备
公司专注于研发和生产半导体制程设备，特别是湿法清洗设备，包括湿法槽式和单片式清洗设备。这些设备主要应用于晶圆制造的前道工艺，涵盖扩散、光刻、刻蚀等关键工序，支持国内半导体产业的技术进步。

要点三:部件清洗与晶圆再生
公司在合肥设立了晶圆再生和部件清洗产线，提供7纳米及以上制程的组件清洗和表面处理服务。通过先进的清洗技术，恢复设备部件的原厂品质，提升客户设备的使用寿命和性能。

要点四:半导体级大宗气体供应
公司投资建设了半导体级大宗气体工厂，为28纳米工艺节点的集成电路制造商提供高纯气体供应，打破国际供应商垄断，支持国内半导体制造的自主化和稳定性。

要点五:系统集成与支持设备
公司在系统集成及支持设备领域保持领先，提供高纯工艺系统服务，满足国内集成电路制造企业的高标准需求。通过自主研发，替代进口设备，增强国内市场的竞争力。

要点六:半导体设备国产化先锋
至纯科技公司主要服务于集成电路领域，占据了公司业务的80%。公司在半导体制程设备、系统集成及支持设备方面具有显著影响力，尤其在湿法清洗设备领域，提供了高端产品如SPM高温硫酸清洗设备等。公司在国内设立了半导体模组及部件制造基地，推动了关键零部件的进口替代。在晶圆再生及部件清洗方面，公司拥有国内首条12英寸晶圆再生产线，并能够为7纳米及以上制程的部件提供清洗服务。此外，公司投资建设的半导体级大宗气体工厂为国内28纳米工艺节点的集成电路制造厂商提供长期高纯大宗气体供应，打破了国际供应商的垄断。至纯科技在国内高纯工艺系统支持设备领域稳居龙头地位，核心客户包括中芯国际、华虹等一线集成电路制造企业。