微导纳米 核心题材：
半导体前道设备+光伏+存储
1、薄膜沉积设备是半导体前道工艺设备的核心设备之一。公司布局的薄膜设备（包含近年来迅速发展的 CVD 技术和处于研发攻坚末期的 PVD 技术）在半导体集成电路行业是除光刻机和刻蚀机外第三大设备市场。
2、公司是国内首家成功将量产型High-k原子层沉积设备应用于集成电路制造前道生产线的国产设备厂商，也是行业内率先为新型存储提供薄膜沉积技术支持的设备厂商之一。
3、公司光伏领域应用的技术路线覆盖了TOPCon、XBC和钙钛矿电池，设备类型以ALD设备为主，poly设备订单增长显著。
4、如FeRAM等新型存储技术在提升算力方面具有更高潜力。在该领域内，公司镀膜设备已进入行业重要客户端，处于量产验证阶段。
5、公司已在新兴领域取得突破并逐步显现成果，在光学、柔性电子、车规级芯片等几个极具市场潜力的薄膜沉积技术应用前沿领域开始获得客户订单。
（更新时间：2024-11-11）

题材要点：
要点一:全球领先的半导体和泛半导体高端微纳装备制造商
微导纳米是一家全球领先的半导体和泛半导体高端微纳装备制造商，专注于原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）等真空薄膜技术的研发、生产与销售。公司在半导体领域，凭借量产型High-k原子层沉积设备，成为国内首家应用于集成电路制造前道生产线的国产设备厂商，并为新型存储提供薄膜沉积技术支持。主要产品包括iTomic PE系列等离子体增强沉积系统和iTronix系列化学气相沉积系统，广泛应用于MEMS、逻辑、存储、CMOS芯片等领域。公司还提供设备改造、备品备件及其他配套服务，帮助客户实现降本增效。

要点二:原子层沉积技术
微导纳米以原子层沉积（ALD）技术为核心，提供高精度薄膜沉积设备。公司是国内首家将High-k ALD设备应用于集成电路制造的厂商，支持新型存储技术，满足多种半导体应用需求。

要点三:等离子体增强沉积系统
公司主要产品iTomic PE系列设备用于沉积氧化物和氮化物，适用于MEMS、逻辑和存储芯片的多重图案化和间隔层，满足多样化的薄膜材料需求。

要点四:化学气相沉积系统
公司主要产品iTronix系列化学气相沉积系统，可应用于逻辑、存储、先进封装、显示器件等镀膜领域。

要点五:设备改造与配件服务
公司提供设备改造和备品备件服务，帮助客户延长设备使用寿命，降低成本。改造服务主要集中在光伏领域，提供尺寸和工艺的升级。

要点六:半导体设备创新者
微导纳米是一家全球知名的半导体和泛半导体高端微纳装备制造商，专注于原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）等薄膜技术。公司在半导体领域取得了显著的行业地位，是国内首家将量产型High-k ALD设备应用于集成电路制造的厂商，并为新型存储提供技术支持。其产品涵盖逻辑、存储、化合物半导体等多个领域，多项设备关键指标达到国际先进水平。同时，微导纳米的iTomic PE系列和iTronix系列设备在市场上获得了客户的重复订单，显示出其技术的成熟与市场认可。